Carrier 19XR PIC II Instructions D'installation, De Fonctionnement Et D'entretien page 34
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3.4 - Installation des supports de la machine
Ces unités sont généralement utilisées pour des applications de
réfrigération qui ne requièrent pas de tenue aux séismes. La
tenue aux séismes n'a pas été vérifiée.
3.4.1 - Installation d'une isolation standard
La Fig. 16 et la Fig. 17 indiquent la position des plaques-supports
et des patins absorbant la flexion due au cisaillement qui
constituent ensemble le système de support standard de la
machine.
3.4.2 - Installation d'un accessoire de nivelage (si
nécessaire)
Si la surface d'un sol est irrégulière, il peut s'avérer nécessaire
d'utiliser des isolations à ressorts en accessoires (fournies par
Carrier pour une installation sur site) et des patins de nivelage.
Voir Fig. 18 et Fig. 19.
Niveler l'unité à l'aide des vis de calage des isolations à ressorts.
Utiliser un niveau d'au moins 600 mm de long.
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Afin d'obtenir un support approprié durable pour l'unité, il est
essentiel de choisir le bon ciment et de l'appliquer correctement.
Carrier recommande l'utilisation d'un ciment sans retrait
prémélangé de type époxy uniquement. Respecter les
instructions du fabricant pour l'application du ciment.
•
Vérifier les plans d'implantation de l'unité pour déterminer
l'épaisseur de ciment requise.
•
Appliquer de la cire sur les vis de calage pour permettre
un retrait ultérieur plus facile du ciment.
•
Le ciment doit être appliqué jusqu'en haut de la base de
l'isolation à ressorts et il ne doit pas y avoir d'interstice
entre le ciment et le bas des isolations à ressorts.
•
Laisser le ciment sécher et prendre conformément aux
instructions du fabricant avant de démarrer l'unité.
•
Retirer les vis de calage des semelles une fois le ciment
durci.
Figure 16 - Isolation standard
a
b
Pied de la machine
1.
Plaque-support
2.
Patin absorbant la flexion due au
cisaillement
Remarque : le kit d'isolation comprend quatre patins absorbant la flexion due au
cisaillement.
Ligne de base pour l'horizontalité
10 mm
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