Endress+Hauser Cerabar M PMC51 Information Technique page 5

Cerabar M PMC51, PMP51, PMP55
Principe de mesure
Cellule céramique utilisée dans PMC51 (Ceraphire
p
Cellule céramique
1 Air (capteur relatif)
2 Support céramique
3 Electrodes
4 Membrane céramique
Endress+Hauser
®
)
➀ ➁ ➂
P01-PMC71xxx-03-xx-xx-xx-000
Cellule céramique utilisée dans PMC51 (Ceraphire
La cellule céramique est une cellule sèche, c'est à dire la pression de process agit directement sur la robuste
membrane céramique et la déplace. Une variation de capacité proprotionnelle à la pression est mesurée aux
électrodes du support céramique et de la membrane. La gamme de mesure est déterminée par l'épaisseur de la
membrane céramique.
Avantages :
• Résistance aux surpressions garantie jusqu'à 40 fois la pression nominale
• Grâce à une céramique pure à 99,9 % (Ceraphire
– Résistance chimique élevée supérieure à celle de l'Alloy C
– Résistance mécanique élevée
• Utilisable dans le vide absolu
• Excellente rugosité de surface, R
Cellule métallique utilisée dans PMP51 et PMP55
PMP51
La pression de process déplace la membrane de process et le liquide de remplissage transmet la pression à un
pont de résistance. La modification de la tension de pont proportionnelle à la pression est mesurée et exploitée.
Avantages :
• Utilisation pour des pressions de process jusqu'à 400 bar (6000 psi)
• Stabilité à long terme
• Résistance aux surpressions garantie jusqu'à 4 fois la pression nominale
• Effet thermique sensiblement réduit par rapport aux systèmes avec séparateur
PMP55
La pression du système agit sur la membrane du séparateur et est transmise par le liquide du séparateur à la
membrane de la cellule. La membrane de process est déplacée et un liquide de remplissage transmet la pression
à un pont de résistance. La modification de la tension de pont proportionnelle à la pression est mesurée et
exploitée.
Avantages :
• Selon la version, utilisable pour des pressions de process jusqu'à 400 bar (6000 psi) et des températures de
process extrêmes
• Stabilité à long terme
• Résistance aux surpressions garantie jusqu'à 4 fois la pression nominale
Cellule métallique utilisée dans PMP51 et PMP55
➀
➁
➃
➂
➃
Cellule métallique
1 Elément de mesure silicium
2 Elément de mesure avec pont de Wheatston
3 Canal avec liquide de remplissage
4 Membrane métallique
®
)
®
, voir aussi "www.endress.com/ceraphire")
0,3 m (11,8 in)
a
p
P01-PMP7xxxx-03-xx-xx-xx-000
5