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6 Mise en service
Actionneur :
Régulation bas /
haut :
Process :
Direction d'action,
unilatérale ou bilatérale :
Process par batch ou
continu :
Régulation prédictive
Commande de l'actionneur
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Terminologie
Vannes, robinets à vanne, pompes, etc.
Les termes "haut" (= régulation ascendante) et "bas" (= régulation descendante) employés dans le
menu sont utilisés en référence à la direction d'action :
Bas = la régulation ne dose que si la valeur mesurée est supérieure à la valeur de consigne.
Haut = la régulation ne dose que si la valeur mesurée est inférieure à la valeur de consigne.
La régulation ou le process (par la suite appelé "process" pour simplifier) peut être différencié par
différentes caractéristiques :
Une régulation unilatérale (une plage) n'agit que dans l'une des deux directions. Elle influence le
process de telle sorte que soit la valeur mesurée augmente (régulation ascendante), soit elle diminue
(régulation descendante).
Dans un process bilatéral (deux plages), la régulation agit en général dans les deux directions ("haut"
et "bas"). Il est ainsi possible d'augmenter ou de réduire la valeur de la grandeur réglée (ici = valeur
mesurée).
En régulation active, le process par batch et le process continu se différencient de la manière
suivante :
Process par batch pur : le réservoir est rempli de produit. Il n'y a pas d'ajout de produit pendant le
process. La variation de la valeur mesurée ne peut être causée que par la régulation. Pour compenser
les éventuels "dépassements", il faut utiliser une régulation bilatérale (voir ci-dessus). Tant que la
valeur effective se trouve dans la zone neutre, on n'ajoute aucun produit de dosage.
Process continu pur : la régulation agit sur le flux de produit. Le valeur mesurée du produit peut
subir de fortes variations qui doivent être compensées par la régulation. Tant que la valeur effective
correspond à la valeur de consigne, la grandeur réglante a une valeur constante.
Le régulateur du Mycom prend en compte ces différents comportements en agissant sur la partie
intégrale du régulateur PI ou PID pour ces réglages.
En pratique, l'option la plus courante est le process par semi-batch. Selon le rapport produit
ajouté/taille de la cuve, ce process montre le comportement d'un process continu ou par batch.
Pour résoudre les problèmes généraux liés aux process en ligne purs, le CLM153 permet de "lire
l'avenir" à l'aide d'un second capteur et d'un débitmètre. Le régulateur peut ainsi réagir rapidement
aux fortes variations à l'entrée.
Pour le CLM153, il existe quatre méthodes de commande de l'actionneur différentes (voir ci-
dessus).
1.
PWM (modulation d'impulsions en durée, "régulateur de temps d'impulsion")
Elle est utilisée pour la commande d'électrovannes. Comme pour la PWM, la grandeur réglante
analogique interne est également émise sur un relais, cette fois, sous forme d'impulsion très courte.
Plus la grandeur réglante calculée est grande, plus le temps de contact t
La durée de période peut être réglée librement entre 1 et 999,9 secondes. La durée minimum de
fonctionnement est 0,4 secondes.
Un process bilatéral requiert deux relais PWM ou un PWM et un régulateur pas-à-pas à trois points
(voir ci-dessous). Un relais PWM seul ne peut générer qu'une grandeur réglante.
Pour éviter des impulsions trop courtes, entrez une durée minimum de fonctionnement. Des
impulsions plus courtes ne sont pas transmises au relais/à l'actionneur. Ce qui permet de ménager
l'actionneur.
Mycom S
est grand ; voir fig. 24.
ON
Endress+Hauser
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