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Topclean S
Régulateur PI
Régulateur PD
Régulateur PID
Transformation de Laplace
Process par batch ou
continu :
Endress+Hauser
Utilisé pour des systèmes de régulation où il faut éviter tout dépassement et où aucun écart de
régulation durable ne doit se produire.
Utilisé pour des process qui requièrent des changements rapides et où des pics doivent être corrigés.
Utilisé pour des process où un régulateur P, PI ou PD n'est pas suffisant.
Possibilités de réglage du régulateur PID :
• Modifier le gain K
(effet P)
p
• Régler le temps d'action intégrale T
• Régler le temps d'action dérivée T
La transformation de Laplace est une transformation intégrale qui transforme une fonction donnée
f(t) du domaine temporel en une fonction f(s) du domaine spectral.
Grâce à son principe de différentiation, la transformation de Laplace est utile pour résoudre des
équations différentielles. L'équation différentielle est transformée dans le domaine spectral,
l'équation algébrique obtenue est résolue et la solution retransformée dans le domaine temporel.
En régulation active, le process par batch et le process continu se différencient de la manière
suivante :
• Process par batch : le réservoir est rempli de produit et ensuite le process commence. Les
variations de pH sont le résultat soit d'une réaction, soit de l'ajout d'un produit acide ou basique
pour amener le pH à une valeur bien déterminée. Pour compenser les éventuels "dépassements",
il faut utiliser une régulation bilatérale (voir ci-dessus). Tant que la valeur effective se trouve dans
la zone neutre, on n'ajoute aucun produit de dosage.
• Process continu : la régulation agit sur le flux de produit. Le pH du produit peut subir de fortes
variations qui doivent être compensées par la régulation. Le volume de produit déjà écoulé ne
peut plus être influencé par la régulation. Tant que la valeur effective correspond à la valeur de
consigne, la grandeur réglante a une valeur constante.
En pratique, l'option la plus courante est le process par semi-batch. Selon le rapport produit
ajouté/taille de la cuve, ce process montre le comportement d'un process continu ou par batch.
Le régulateur du Mycom prend en compte ces différents comportements en agissant sur la partie
intégrale du régulateur PI ou PID pour ces réglages.
Commande de l'actionneur
Pour le CPM153, il existe quatre méthodes différentes de commande de l'actionneur (voir
ci-dessus).
1.
PWM (modulation d'impulsions en durée, "régulateur de temps d'impulsion")
Elle est utilisée pour la commande d'électrovannes. Comme pour la PWM, la grandeur réglante
analogique interne est également émise sur un relais, cette fois, sous forme d'impulsion très courte.
Plus la grandeur réglante calculée est grande, plus le temps de contact t
La durée de période peut être réglée librement entre 1 et 999,9 secondes. La durée minimum de
fonctionnement est 0,4 secondes.
Pour un process bilatéral, vous pouvez utiliser les procédés suivants pour la commande :
• deux relais PWM
• un relais PWM et un relais PFM
• un relais PWM et un régulateur pas-à-pas à 3 points
Un relais PWM seul ne peut générer qu'une grandeur réglante pour une électrovanne.
Pour éviter des impulsions trop courtes, entrez une durée minimum de fonctionnement. Des
impulsions plus courtes ne sont pas transmises au relais/à l'actionneur. Ce qui permet de ménager
l'actionneur.
(effet I)
n
(effet D)
v
6 Mise en service
est grand (voir fig. 39).
ON
75
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