SEKUR 200 Serie Notice D'utilisation page 41

Cianuro de hidrogeno (HCN)
E2 Dioxido de sulfuro (SO
K2 Amoniaco (NH
A3 Cicloexano (C
B3 Sulfuro de hidrogeno (H
Cianuro de hidrogeno (HCN)
E3 Dioxido de sulfuro (SO
K3 Amoniaco (NH
Se ha de tener en cuenta que e tiempo de saturación de los filtros en condiciones normales puede ser menor que las condiciones
de ensayo en laboratorio. Hay filtros que protegen contra más de uno de el gas antes mencionado (filtros de tipo múltiples). Estos
filtros contienen todas las marcas (las letras, los colores y el número de clases) para cada campo de aplicación principal para el que
aparecen. Para cada contaminante de la que proteger las consideraciones hechas para los filtros individuales.
Los filtros antipolvo
La clase superior de los filtros antipolvo comprende (con el citado tipo de máscara) además el campo de empleo de la clase inferior.
Clase de
Tipo de dispositivo
filtro
Semi mascára o cuarto de máscara
P1
(baja)
Mascára de cara completa o dispositivo
Semi mascára o cuarto de máscara
P2
(media)
Mascára de cara completa o dispositivo
Semi mascára o cuarto de máscara
P3
(elevada)
Mascára de cara completa o dispositivo
Los filtros antipolvo deben sustituirse cuando la resistencia de respiración se vuelva demasiado alta.
2)
)
3
H )
6 12
Cloro (Cl )
2
S)
2
)
2
)
3
bucal
bucal
bucal
5000
5000
5000
8000
10000
10000
10000
10000
10000
Múltiplo del
valor límite
TLV
No adaptado contra aerosoles líquidos, materiales
4 radiactivos y cancerígenos,microorganismos y materiales
4
10
No adaptado contra materialies radiactivos,
microorganismos (bacterias, hongos y mohos) y
materiales bioquímicos activos (enzimas y hormonas)
15
30
No adaptado contra materialies radiactivos,
microorganismos y materiales bioquímicos activos
400
41
25
20
40
65
30
60
35
30
60
Observaciones - Limitaciones
bioquímicos activos
Combinación poco significativa