Emplacement De Montage; Mesure De Pression - Endress+Hauser IO-Link Ceraphant PTC31B Manuel De Mise En Service

Mesure de pression de process, capteur pour la mesure et la détection de pression absolue ou relative
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Ceraphant PTC31B, PTP31B, PTP33B IO-Link
Endress+Hauser
Type
Axe horizontal de la
membrane de process (A)
PTP31B
Position d' é talonnage, aucun
PTP33B
effet
PTC31B
Position d' é talonnage, aucun
< 1 bar (15 psi)
effet
PTC31B
Position d' é talonnage, aucun
≥1 bar (15 psi)
effet
Un décalage du zéro en fonction de la position peut être corrigé sur l' a ppareil.
5.4

Emplacement de montage

5.4.1

Mesure de pression

Mesure de la pression dans les gaz
Monter l' a ppareil avec une vanne d' a rrêt au-dessus de la prise de pression de sorte que les
éventuels condensats puissent s' é couler dans le process.
1
Appareil
2
Vanne d' a rrêt
Mesure de la pression dans les vapeurs
Pour la mesure de pression dans la vapeur, utiliser un siphon. Le siphon réduit la
température à presque la température ambiante. Monter de préférence l' a ppareil en
dessous de la prise de pression avec une vanne d' a rrêt et un siphon.
Avantage :
• Une colonne d' e au définie ne cause que des erreurs de mesure mineures/négligeables et
• Uniquement des effets thermiques mineurs/négligeables sur l' a ppareil.
Le montage au-dessus de la prise de pression est également autorisé.
Respecter la température ambiante max. autorisée pour le transmetteur !
Tenir compte de l' e ffet de la colonne d' e au hydrostatique.
Membrane de process
orientée vers le haut (B)
Jusqu' à +4 mbar (+0,058 psi) Jusqu' à –4 mbar (–0,058 psi)
Jusqu' à
+0,3 mbar (+0,0044 psi)
Jusqu' à
+3 mbar (+0,0435 psi)
1
2
Montage
Membrane de process
orientée vers le bas (C)
Jusqu' à
–0,3 mbar (–0,0044 psi)
Jusqu' à
–3 mbar (–0,0435 psi)
A0025920
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