Endress+Hauser Liquitrend QMW43 Manuel De Mise En Service page 19

Mesure conductive et capacitive de conductivité et d'épaisseur de dépôt
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Liquitrend QMW43
Endress+Hauser
[mm]
OU1
9.5
0
[ s/cm]
OU2
10⁴
0
 10
Exemple d' a pplication : nettoyage de cuves
Description du graphique "Exemple d' a pplication : nettoyage de cuves"
À la fin d' u n cycle de production :
1. La cuve est vide.
 Résidus de produit considérables dans la cuve.
Signal OU1 : dépôt ≥ 1 mm
Signal OU2 : conductivité < conductivité du produit lorsque la cuve est remplie
2. Effectuer le nettoyage en place (NEP) ; rincer, p. ex. avec de l' e au.
3. La cuve est vide.
 Résidus de produit encore dans le réservoir.
Signal OU1 : dépôt ≥ 0,1 mm
Signal OU2 : conductivité < valeurs mesurées à partir du point 1, mais > 0 µS/cm
4. Nettoyer ou rincer une nouvelle fois.
5. La cuve est vide.
 Résidus de produit encore dans le réservoir.
Signal OU1 : dépôt ≥ 0,1 mm
Signal OU2 : conductivité < valeurs mesurées à partir du point 1, mais 0 µS/cm
6. Nettoyer ou rincer une nouvelle fois.
7. La cuve est vide.
 Le capteur ne détecte plus de résidus de produit.
Signal OU1 : dépôt ~ 0 mm
Signal OU2 : conductivité ~ 0 µS/cm
Contacter Endress+Hauser si l' a ppareil doit être utilisé dans des conduites ou cuves qui
sont toujours remplies, ou pour déterminer l' h omogénéité de mélanges.
2.
4.
6.
1.
3.
5.
2.
4.
6.
1.
3.
5.
Fonctionnement
7.
t
7.
t
A0041350
19

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